旋极星源取得一种功率放大器芯片生产用接触式光刻机专利,助力芯片光刻加工
金融界2024年10月1日消息,国家知识产权局信息显示,成都旋极星源信息技术有限公司取得一项名为“一种功率放大器芯片生产用接触式光刻机”的专利,授权公告号CN 221782559 U,申请日期为2023年12月。
专利摘要显示,本实用新型属于功率放大器芯片生产技术领域,尤其涉及一种功率放大器芯片生产用接触式光刻机,包括底板和支撑柱,所述支撑柱固定连接于底板的上侧后端中间位置,所述支撑柱的上端前方固定连接有光刻主体,所述底板的上端连接有加工机构,所述加工机构包括防护单元和调节单元。该功率放大器芯片生产用接触式光刻机,在使用时,先将待光刻芯片放置于托板之上后,再启动第电机和第二电机带动第螺纹杆和第二螺纹杆同转动使得第一滑动块位于横向导轨的内侧滑动,第二滑动块位于纵向导轨的内侧滑动,直至上端托板之上的芯片移动至光刻主体下方对应光刻位置后,接着开启光刻主体对芯片进行光刻加工。
本文源自金融界
中国大力发展芯片,但全球90%光刻胶都是日本产,若卡脖子该咋办
文 | 番茄
编辑 | 番茄
你是否留意过,轻触手机屏幕,导航为你规划路线,这些习以为常的动作,背后都离不开一颗小小的芯片?它如同现代科技的心脏,驱动着信息时代的飞速发展,鲜为人知的是,中国“芯”的发展之路,却充满挑战,而其中一道难以逾越的关卡 ,竟是看似微不足道的“小胶囊”——光刻胶
图片来源于网络
中国芯片产业近年来发展迅猛,但在高端芯片领域,仍面临着“受制于人”的困境,尤为关键的是光刻胶 ,这种在芯片制造过程中不可或缺的关键材料,如同芯片的“刻刀”,将电路图“雕刻”在硅片上,令人担忧的是 ,全球90%的光刻胶市场被日本企业牢牢掌控,成为中国芯片产业发展的一大掣肘
图片来源于网络
日本企业在光刻胶领域的霸主地位并非偶然,而是数十年技术积累和精益求精的结果,早在几十年前,日本企业就已开始布局光刻胶产业,凭借其在材料科学领域的深厚造诣,不断突破技术瓶颈,最终筑起了难以逾越的技术壁垒,反观欧美国家,在光刻胶技术发展初期,将目光聚焦于利润更为丰厚的芯片设计和制造领域 ,无意间将这片看似“低端”的市场拱手让给了日本
图片来源于网络
如今,光刻胶成为制约中国芯片产业发展的“卡脖子”难题 ,为中国敲响了警钟,过度依赖外部供应链,无异于将命运的咽喉交于他人之手 ,实现芯片产业的自主可控,迫在眉睫
图片来源于网络
突破光刻胶技术封锁,唯有依靠自主研发 ,掌握核心技术,加大研发投入,鼓励企业持续创新 ,方能打破技术垄断,摆脱受制于人的局面
图片来源于网络
加强国际合作,引进国外先进技术和人才 ,也是一条可行路径,在寻求国际合作的也要保持清醒的头脑 ,警惕技术依赖,避免重蹈欧美国家覆辙
图片来源于网络
更重要的是,要fostering国内企业自主创新能力 ,鼓励企业加大研发投入,形成具有自主知识产权的核心技术,政府也应出台相关政策 ,为企业营造良好的创新环境,引导资金和资源向芯片产业倾斜
图片来源于网络
芯片产业是关系到国家安全和国民经济命脉的战略性产业 ,发展芯片产业 ,需要政府、企业和科研机构的共同努力
图片来源于网络
中国“芯”的崛起之路,注定充满挑战 ,但我们有理由相信,凭借着不懈的努力和探索 ,中国芯片产业必将突破技术封锁,实现自主可控,让“中国芯”屹立于世界之巅,为全球科技进步贡献力量
图片来源于网络
为了更全面地展现中国芯片产业面临的挑战和机遇,我们可以参考一些数据和案例,根据中国半导体行业协会的数据 ,2022年中国集成电路进口额超过4000亿美元 ,其中很大一部分是高端芯片
图片来源于网络
中芯国际作为中国大陆最大的芯片代工企业 ,其先进制程工艺与国际领先水平仍存在差距 ,这也反映出中国芯片产业在高端领域面临的技术瓶颈
面对挑战,中国政府近年来出台了一系列政策措施 ,支持芯片产业发展,《国家集成电路产业发展推进纲要》明确提出,到2030年 ,中国集成电路产业链主要环节达到国际先进水平,实现芯片自主安全保障能力
中国企业也在积极探索突围之路,华为公司在面临美国制裁的情况下,加大自主研发力度 ,推出了麒麟系列芯片 ,展现了中国企业的创新实力
中国芯片产业发展任重道远 ,但我们有信心、有能力overcomedifficultiesandachievethegoalofindependentandcontrollablechipindustry.
(字数:700+)
相关问答
芯片原材料紧缺!芯片业疯抢的光刻胶,国产玩家能分几杯羹?
光刻胶实际上也是分好多种,哪怕是单指做芯片的光刻胶,也因为芯片尺寸不同,还可以细分成许多种。在光刻胶领域内,和其他半导体材料一样,低档的基本上完成了...
堆叠芯片与光刻芯片的区别?
堆叠芯片和光刻芯片的区别堆叠芯片是将多个芯片层叠在一起,以提高性能和功能。它们可以提供更多的功能,更高的性能和更小的尺寸。光刻芯片是使用光刻技术制造...
芯片光刻机谁发明的?
现代光刻技术可以追溯到190年以前,1822年法国人Nicephoreniepce在各种材料光照实验以后,开始试图复制一种刻蚀在油纸上的印痕(图案),他将油纸放在一块玻璃片...
光刻胶真正龙头是谁?
龙头是晶瑞光刻胶是集成电路的核心材料之一,光刻工艺是集成电路最重要的工艺技术,制程时间占比约为40-50%,光刻工艺总成本占比约为35%,光刻胶材料总成本占比...
量子芯片有光刻技术吗?
量子芯片是一种新兴的芯片技术,它与传统的计算机芯片有很大的区别。在制造过程中,量子芯片需要使用到光刻技术,但是与传统计算机芯片的光刻技术不同。传统计...
光刻时代真的存在吗?
光刻时代确实存在。在20世纪60年代,光刻技术逐渐被应用于芯片制造中,主要是通过光刻机器将芯片电路图案转移到硅片上。从那以后,光刻技术在芯片制造领域的重...
光刻胶与晶圆有什么关系?
光刻胶和晶圆都是半导体材料,光刻胶的用途更加广泛,晶圆只应用于IC制造。光刻胶是利用化学反应转移图像的媒体光刻胶是利用光化学反应,经光刻工艺将所需要的...
大神赐教!光刻芯片是干什么的?
[回答]光刻芯片是指集成电路制造中利用光学—化学反应原理和化学,物理刻蚀法,将电路图形传递到单晶表面或介质层上,形成有效图形窗口或功能图形的工艺技术...
光刻机3纳米是多小?
刻机3纳米是指:节点技术的关键尺寸,而这个尺寸不是芯片能用肉眼看到的几何尺寸(一般是毫米到厘米级别),而一般是指栅极长度(gatelength)。这个长度是又掩...
光刻工是什么?
光刻工是平面型晶体管和集成电路生产中的一个主要工艺。是对半导体晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)进行开孔,以便进行杂质的定域扩散的一种加工技术。一般的光...